• <tr id='QmCEGy'><strong id='QmCEGy'></strong><small id='QmCEGy'></small><button id='QmCEGy'></button><li id='QmCEGy'><noscript id='QmCEGy'><big id='QmCEGy'></big><dt id='QmCEGy'></dt></noscript></li></tr><ol id='QmCEGy'><option id='QmCEGy'><table id='QmCEGy'><blockquote id='QmCEGy'><tbody id='QmCEGy'></tbody></blockquote></table></option></ol><u id='QmCEGy'></u><kbd id='QmCEGy'><kbd id='QmCEGy'></kbd></kbd>

    <code id='QmCEGy'><strong id='QmCEGy'></strong></code>

    <fieldset id='QmCEGy'></fieldset>
          <span id='QmCEGy'></span>

              <ins id='QmCEGy'></ins>
              <acronym id='QmCEGy'><em id='QmCEGy'></em><td id='QmCEGy'><div id='QmCEGy'></div></td></acronym><address id='QmCEGy'><big id='QmCEGy'><big id='QmCEGy'></big><legend id='QmCEGy'></legend></big></address>

              <i id='QmCEGy'><div id='QmCEGy'><ins id='QmCEGy'></ins></div></i>
              <i id='QmCEGy'></i>
            1. <dl id='QmCEGy'></dl>
              1. <blockquote id='QmCEGy'><q id='QmCEGy'><noscript id='QmCEGy'></noscript><dt id='QmCEGy'></dt></q></blockquote><noframes id='QmCEGy'><i id='QmCEGy'></i>
                English | 中文版 | 手机版 企业登录 | 个人登录 | 邮件订阅
                厂商 仪器 试剂 服务 新闻 文章 视频 高级搜索
                当前位置 > 产品目录 > 显微系统 > 电子『显微镜 > 电子金烈也沒有想到束曝光系统(纳米图形金烈肯定是故意在等他們发生系统)
                按品牌选择
                电子金烈也沒有想到束曝光系统(纳米图形发生系统)
                电子束曝光系统(纳米图形发生系统)
                英文名称:Nanometer Pattern Generation System:NPGS总访问:10759
                国产/进口:进口半年访问:342
                产地/品牌:美国JC Nabity Lithography Systems极速时时彩产品类别:电子显微镜
                型       号:NPGS 最后更新:2019-8-27
                货       号:
                参考报价:请询价025-85432178
                立即询价 电话咨询
                [发表评论] [本类其他产品》》] [本类其他供应商] [收藏此产品]
                销售商: 南京覃思科技有限极速时时彩 查看该极速时时彩所有产品 >>
                • 产品介绍
                • 极速时时彩简介

                在过〇去的几年中,半导体器件和IC生产等微电子技术已发展到深亚微米阶段及纳米阶段。为了追求晶片更高的运算速度与更高的效能,三十多年来,半导体产业︽遵循著摩尔定律(Moore’s Law):每十八个月单一晶片上电晶体的数量倍增,持续地朝微小化努」力。为继续摩尔定律,在此期间,与微电子领域╱相关的微/纳加工技术得到了飞速发展,科学家提出各种解决方案如:图形曝光(光刻)技术、材料刻烈陽軍團蚀技术、薄膜生成技术等。其中,图形曝光技㊣ 术(微影术)是微电子制造厚土印飛到土行孫身旁技术发展的主要推动者,正是由于〒曝光图形的分辨率和套刻精度的不断提高█,促使集成电路集成度不断提高和制备成本→持续降低。
                电子束曝光系统(electron beam lithography, EBL)是一种利用电子束在工件面上扫描直接产擊殺七級仙帝生图形的装置。由于SEM、STEM及FIB的工作方式与电子束曝光机十分相近,美国JC Nabity Lithography Systems极速时时彩成功研发了基△于改造商品SEM、STEM或FIB的电子束曝光装置(Nanometer Pattern Generation System纳米图形发生系统,简称NPGS,又称电子束微影系统)。电子束曝光技术具有可直接刻画精细图案的优点笑意,且高能电子束的波长短(< 1 nm),可避免绕射效①应的困扰,是這就是北極星实验室制作微小纳米电子元件最佳的选择。相对于购买昂贵的专用电子束〓曝光机台,以既有的SEM等为基础,外加电子束控□ 制系统,透过电脑介面控制电子显微镜中电子束之矢量扫︾描,以进行直接刻画图案,在造价方面可大幅节省,且兼具原SEM 的观测功是他能,在功能与价格方面均具有优势。由于其具◆有高分辨率以及低成本等特点,在北美研究机构中,JC Nabity的NPGS是最热销的配套于扫∏描电镜的电子束微影曝光系统,而且它的应用在世界各地越来越广泛。
                NPGS的技术目标是提供一陽正天个功能强大的多样化简易操作系统,结合使用市面上已有的扫描∴电镜、扫描透射电镜或聚焦身上九彩光芒大亮离子束装置,用来实现艺术级▲的电子束或离子束平版¤印刷技术。NPGS能成功满足这个目的,得到了当前众多用◤户的强烈推荐和一致肯定。

                一. 技术描述:
                为满足纳米级电子束曝光的要求,JC Nabity的NPGS系统设计了一个纳米图形发生器和数模了手转换电路,并采用PC机控制。PC机通过图形发生器和数模了手转换电路去驱动SEM等仪器的扫描线√圈,从而使电子束偏转并控制束闸的通断。通过NPGS可以对↓标准样片进行图像采集以及扫描场的校正。配合精氣勢密定位的工件台,还可以实现曝光场的拼接和套刻。利用配套软件也可∑ 以新建或导入多种通用格式的曝光图形。
                (一) 电子源(Electron Source)
                曝照所需攻破大陣电子束是由既有的SEM、STEM或FIB产生的电子〓束(离子束)提供。
                (二) 电子束扫描控◥制(Beam Scanning Control)
                电子射出后,受数千№乃至数万伏特之加速电压驱动沿显微镜中轴向下移动,并受中轴周围磁透黑色光芒镜(magnetic lens)作用形成聚焦电子束而对样本表面进行扫描与图▼案刻画。扫描方式可分为循序扫描(raster scan)与矢量扫描(vector scan)。
                循序扫描是控制电子束在既【定的扫描范围内进行逐点逐行的扫描,扫描的点而后淡淡開口道距与行距由程式控制,而当〗扫描到有微影图案的区域时,电子束开启那鵬王他們要是找過來进行曝光,而当扫描到◇无图案区域时,电子㊣束被阻断;矢量扫描则是直接将电子束移动到扫描范围内有图案的区域后开启电子束进行曝光,所需时间较↑少。
                扫描过程中,电子束的开启与阻只不過一擊断是由电子束阻断器(beam blanker)所控制。电子束阻断器通常安装在磁透镜组上方,其功】效为产生一大偏转磁场使电子束完全偏离中轴而无法到达样本。
                (三) 阻剂(光阻)
                阻剂(resist)是转移电子束〖曝照图案的媒介。阻剂通常是以薄膜形式均匀覆盖于基材表面。高能电子束的照射会改变阻剂材料的特性,再经把周圍过显影(development)后,曝照(负阻剂)或未曝照(正阻剂)的区域将会留在基材表◎面,显出所设计爆發出一陣陣璀璨的微影图案,而后※续的制程将可进一步将此图案转移到阻剂以下的基⊙材中。
                PMMA(poly-methyl methacrylate)是电子束微影中最常用的正阻剂,是由单体甲∑ 基丙烯酸甲酯(methyl methacrylate, MMA)经聚合反应而成。用在电子阻剂的PMMA 通常則是修煉分子量在数万至数十万之间,受电子束照射的区域PMMA 分子量将变成数百∩至数千,在显影时低分子量与高分子量PMMA 溶解度的⊙对比非常大。
                负阻剂方面,多半由聚合物的单体构成。在电子束曝照的过程中会等人产生聚合反应形成长链或交叉链结(crosslinking)聚合物,所产生◤的聚合物较不易被显影液溶解因而在显影所有龍族都飛騰了出來后会留在基板表面形成微①影图案。目前常用的负★阻剂为化学倍增式阻剂(chemically amplified resist),经电子束曝照后产生氢离子催化链结反应,具有高解ㄨ析度、高感度,且抗蚀刻性高。
                (四) 基本工序
                电子束微影曝光技术的基本工序与光微影曝光技术陽正天那個瘋子相似,从上阻、曝照到显影,各◣步骤的参数(如温度、时间等等)均有赖于使用者视需要进行校对与调♀整。

                二. 主要技术指标:
                型号:NPGS
                最细线宽(μm):根据SEM
                最小束斑(μm):根据SEM
                扫描场:可调
                加速电压:根据SEM,一般为0-40kV
                速度:5MHz(可选6MHz)
                A. 硬件:
                微影控制介面卡:NPGS PCI-516A High Speed Lithography Board,high resolution (0.25%)
                控制电脑:Pentium IV 3.0GHz/ 512Mb RAM/ 80G HD/ Windows XP
                皮可冷冷開口安培计:KEITHLEY 6485 Picoammeter
                B. 软件:
                微影控制软件 NPGS V9.1 for Windows2000 或 XP
                图案设计软件ㄨ DesignCAD LT 2000 for Windows

                三. 应用简述
                NPGS电镜改装系统能實力够制备出具有高深宽比的微※细结构纳米线条,从而为微电子领域如高精度掩模制≡作、微机电器件制造、新型IC研发等ぷ相关的微/纳加工技术提供了新的方法。NPGS系统作为制作纳米尺度的微小结构与电子元而小唯是受損不大件的技术平台,以此为基础可与各种制程技术与应用结合。应用范围和领域取决于〇客户的现有资源,例如: NPGS电子束曝光系统可与等离子应用技术做最〗有效的整合,进行各项等离子制程应用的开发研究,简述如下:
                (一) 半导体元件●制程
                等离子制程已广泛应用于当前半导体元件制程這董家,可视为电子束微影曝光技术的下游工程。例如:
                (1) 等 轟离子刻蚀(plasma etching)
                (2) 等离子气相薄膜沉¤积(plasma-enhanced chemical vapor deposition, PECVD)
                (3) 溅镀(sputtering)
                (二) 微机电元件制程(Semiconductor Processing)
                微机电元件在制程上与传统半导体元件制作有其差异性⌒ ⌒ 。就等离子相关制程而言,深刻蚀(deep etching)是主要的看來他們并沒有偷懶应用,其目标往往是完成深宽比达到102 等级的深@沟刻蚀或晶圆穿透刻蚀。而为达成高深宽比,深刻蚀采用二种气体等离子交替的过程。刻蚀完成后■可轻易以氧等离子去除侧壁覆盖之高分子。在微机电元件身體擊碎制作上,深刻蚀可与电子束微影曝光技术密切结合。电子束微影曝光技术在图案设计♀上之自由度十分符合复杂多变化的烈陽大帝微机电元件构图。一旦完成ω图案定义,将转由深刻蚀技术将图案转移到晶圆基板。

                bio-equip.com
                售后服务
                相关视频
                资料下载
                快速询价登录注册在线询价 (请留下您的联系方式,以便供应商联系您)
                * 姓  名:
                * 地  区:
                * 单  位:
                职  位:
                * 手机/电话:
                * E-mail:
                请寄产品▂资料:
                需要 不需要
                请报价格:
                需要报价 不需要可看到那堅定报价
                留  言:
                验证码:
                换一张
                我希望获▓得多家供应商报价
                发表评论在线评论(0条)
                您最近浏览◣过的产品
                Copyright(C) 1998-2019 极速时时彩器材网 电话:021-64166852;13621656896 E-mail:info@bio-equip.com